产品详情
产品 | 产品介绍 | 分类 | 关键性能描述 |
| 晶圆级绝缘钝化层PI | PS601/PS611产品,通过高温交联和酰亚胺化后所得的聚酰亚胺膜具有优异的耐热性、尺寸稳定性、力学特性和耐化学性等。搭配光刻胶可实现图形化功能层,可作为半导体功率器件中的晶圆级绝缘钝化层 | PS系列 | 粘度4000cP~20000cP; 膜厚5μm~25μm; 固化温度350℃~420℃; 1%失重温度>445℃; 具备优异的力学电学性能 |
| 晶圆级绝缘钝化层PSPI | 正性光敏PS602/负性光敏DG5030产品,有良好的图形化能力,通过高温交联和酰亚胺化后所得的聚酰亚胺膜具有优异的耐热性、尺寸稳定性、力学特性和耐化学性等。可作为半导体功率器件中的晶圆级绝缘钝化层 | PS系列/DG系列 | ghi线曝光; 分辨率5μm~10μm; 覆盖高/低感光度PSPI; 膜厚5μm~15μm; 固化温度350℃~400℃; 具备优异的电学、力学性能 |
关键词:晶圆级绝缘钝化层材料
上一条: 临时键合胶
下一条: 没有了!
晶圆级绝缘钝化层材料
晶圆级钝化层PI/PSPI,是在晶圆级封装(WLP)工艺中应用的关键材料。通过旋涂、曝光显影形成图形化保护层。经高温固化后,为芯片表面提供优异的钝化保护和应力缓冲,有效提高器件可靠性。
相关产品
集成电路材料
CMP制程材料
半导体先进封装
半导体显示材料
OLED
-
YPI
粘度4000cP~7000cP;<br> 固含量10%~20%;<br> 膜厚5μm~15μm固化温度450℃~480℃;<br> 1%失重温度>560℃;<br> 具备优异的力学光学性能
-
PSPI
ghi线曝光;<br> 分辨率2μm~3μm;<br> 覆盖高/低感光度PSPI;<br> 膜厚1μm~5μm;<br> 固化温度250℃~280℃;<br> 具备优异的光学、力学性能
-
TFE INK
粘度20cP~22cP;<br> 水分<50ppm;<br> 395nmUV固化;<br> 膜厚6μm~15μm;<br> 具备优异的光学性能
-
BPDL
分辨率5μm;<br> 粒径50~70nm;<br> 固化温度250℃~280℃;<br> 膜厚1μm~5μm;<br> OD(光密度)>1/μm
-
无氟PSPI
ghi线曝光;<br> 分辨率2μm~3μm;<br> 覆盖高/低感光度PFAS free PSPI;<br> 膜厚1μm~5μm;<br> 固化温度250℃~280℃;<br> 具备优异的光学、力学性能
MICRO-LED
锂电高端功能性辅材
功能助剂
-
润湿分散剂HFW-118
1、制浆效率提升10-20%;<br> 2、涂布外观明显改善。
-
碳源分散剂HFF-1176
1、浆料固含提升5-6%;研磨效率提升20%;<br> 2、碳含量相同下,粉阻小于10.
-
分散剂HFF-2808
1、提高浆料固含量:3-6个点;<br> 2、降低辊压:降低20%;<br> 3、改善柔性:1次以上;<br> 4、提升压实:0.03-0.05
-
分散剂HFF-29XX系列
1、适配性强:可适配不同工艺路线LFP和不同类型PVDF;<br> 2、降粘提固稳粘:LFP浆料固含提高至65%以上,浆料粘度保持稳定反弹小;<br> 3、极片压实提升0.03-0.1%;柔性提升20-30%。
-
防开裂助剂HFW-110
1、适配80m/min以上快涂工艺;<br> 2、抗开裂效果提升20-30%,极片良率提升。
打印复印通用耗材
在线留言
留下您想咨询的信息,我们会尽快联系您