产品详情
负性光敏DG5010/DG5020产品,有良好的图形化能力,通过高温交联和酰亚胺化后所得的聚酰亚胺膜具有优异的耐热性、尺寸稳定性、力学特性和耐化学性等。可用作先进封装bumping,RDL工艺等的钝化绝缘层和缓冲层。
关键词:封装光刻胶
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封装光刻胶
ghi线曝光;
分辨率5μm~10μm;
覆盖高/低温固化PSPI;
膜厚5μm~15μm;
固化温度200℃~400℃;
具备优异的电学、力学性能和Cu附着力
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