产品详情
| 产品系列 | 产品介绍 |
| 晶圆抛光硬垫 | 抛光硬垫是化学机械抛光(CMP)工艺核心耗材,其通过机械摩擦与化学腐蚀协同作用,去除晶圆表面材料并实现纳米级平整度。 |
| 大硅片抛光垫/晶圆抛光软垫 | 抛光软垫是化学机械抛光(CMP)工艺核心耗材,主要用于精抛和终道抛光;相较于硬垫,软垫具有更好的表面适应性,能减少划痕并提高光洁度。 |
| 第三代半导体抛光垫 | 第三代半导体抛光垫是化学机械抛光(CMP)工艺核心耗材,通过化学腐蚀与机械研磨的协同作用,去除晶圆表面材料并实现纳米级平整度。由于SiC和GaN硬度高(SiC莫氏硬度达9.5),传统抛光垫难以满足需求,因此采用特殊材料和结构设计,以平衡硬度与柔韧性,减少表面缺陷。 |
关键词:抛光垫
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