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【公示】武汉鼎泽新材料技术有限公司集成电路CMP制程用抛光液和清洗液项目环境影响评价第一次信息公示

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【公示】武汉鼎泽新材料技术有限公司集成电路CMP制程用抛光液和清洗液项目环境影响评价第一次信息公示

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武汉鼎泽新材料技术有限公司集成电路CMP制程用抛光液和清洗液项目环境影响评价第一次信息公示

 

根据《建设项目环境保护管理条例》、《中华人民共和国环境影响评价法》、《环境影响评价公众参与办法》等相关要求,武汉鼎泽新材料技术有限公司委托湖北谋创环境技术咨询有限公司承担“集成电路CMP制程用抛光液和清洗液项目”的环境影响评价工作,现将工程情况及建设单位、环评单位联系方式与环评工作程序、向公众征求意见的主要事项和公众提出意见的主要方式进行公示。

一、项目名称及简介

工程名称:集成电路CMP制程用抛光液和清洗液项目

建设地点:武汉经济技术开发区东荆河路1

建设单位:武汉鼎泽新材料技术有限公司

项目性质:改建

主要建设内容及规模:改造千级(局部百级)洁净车间1000㎡,购置混合釜、混料机、过滤器、自动清洗设备等仪器设备,完善相关配套设施。建成年产3000吨集成电路CMP用抛光液及年产1500吨集成电路CMP用清洗液产能规模。

二、项目建设单位名称和联系方式

建设单位:武汉鼎泽新材料技术有限公司

地址:武汉经济技术开发区东荆河路1

联系人:张锐

联系方式:15971492369

邮箱:zhangrui@dl-kg.com

邮编:430056

、承担评价工作的环境影响评价机构的名称

环评单位:湖北谋创环境技术咨询有限公司

地址:湖北省武汉市武昌区徐东大街50号(山河企业大厦3907室) 

联系人:吴工

联系电话:027-86708112

、征求公众意见表的网络连接

公众意见表链接方式,直接通过生态环境部《关于发布<环境影响评价公众参与办法>配套文件的公告》(生态环境部公告2018年第48)获得,具体网址:http://www.mee.gov.cn/xxgk2018/xxgk/xxgk01/201810/t20181024_665329.html

五、提交公众意见表的方式和途径

若您对项目有什么意见和看法,请于公示之日起十个工作日内,反馈建设单位。可填写公众意见表发送电子邮件或通过邮寄信函(以邮戳日期为准)的方式反映与建设项目环境影响有关的意见和建议。您在提交意见时,鼓励公众采用实名方式提交意见并提供常住地址,以便根据需要反馈,并且您的个人信息未经允许不会对外公开(法律法规另有规定的除外)。

六、环境影响评价主要工作内容

本项目环境影响评价过程分三个阶段:第一阶段为准备阶段,主要工作为评价委托、现场初步勘探、资料收集、环境影响要素和评价因子筛选、制定评价实施方案;第二阶段主要工作为现场调查、环境现状监测与分析、环境影响预测与评价,各评价专题实施;第三阶段为报告书编制阶段,环境影响评价专题汇编,报告书内部评审、环保主管部门审查。

 

 

公示单位:武汉鼎泽新材料技术有限公司

                               202176

 

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